[发明专利]从钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质的方法无效

专利信息
申请号: 201010149825.1 申请日: 2010-04-14
公开(公告)号: CN102219259A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 李万龙;赖坚;汤志强;杜军 申请(专利权)人: 湖南荣宏钼业材料股份有限公司
主分类号: C01G39/00 分类号: C01G39/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 414517 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种从钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质的方法,其特征是将待除杂质的钼酸铵溶液升温至45~50℃;根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣,搅拌10~15min;按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1.0~1.5倍加入工业氯化镁,搅拌20~40min;降温至35~40℃加入活性炭,搅拌15~20min后过滤;得到合格的钼酸铵溶液。
搜索关键词: 钼酸 溶液 除去 微量 as si 杂质 方法
【主权项】:
从钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质的方法,其特征是:将待除杂质的钼酸铵溶液升温至45~50℃;根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣,搅拌10~15min;按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1.0~1.5倍加入工业氯化镁,搅拌20~40min;降温至35~40℃加入活性炭,搅拌15~20min后过滤;得到合格的钼酸铵溶液。
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