[发明专利]小分子烷烃燃烧制备气相二氧化硅的方法与装置有效
| 申请号： | 201010148711.5 | 申请日： | 2010-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN101941707A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 马公林;艾俊峰;赵春宇 | 申请（专利权）人： | 赤峰盛森硅业科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 呼和浩特北方科力专利代理有限公司 15100 | 代理人： | 秦华 |
| 地址： | 024087 内蒙古*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明为一种气相二氧化硅的生产方法与装置。将有机卤硅烷、小分子烷烃和空气在燃烧反应器中进行燃烧反应。燃烧反应器是由带燃烧器的圆柱管组成，它有四个与燃烧反应器同轴的气体入口。从内到外依次通入引导气流、主要预混合气流、烷烃气流和空气流，这四股气流共同组成了燃烧反应的原料流。通过控制各入口原料气的比例、入口速度、火焰温度等条件来控制燃烧火焰的稳定性。生产出的气相二氧化硅的比表面积可达350m2/g。本发明使用小分子烷烃代替氢气进行燃烧反应的方法与装置，在提高产品品质的基础上有效降低了生产气相二氧化硅的原料成本及工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 分子 烷烃 燃烧 制备 二氧化硅 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种使用小分子烷烃燃烧制备气相二氧化硅的装置，其特征在于，该装置由反应器(1)和插在其顶端的燃烧器(2)组成，燃烧器(2)有四个与反应器(1)同轴的原料气体入口，在燃烧器(2)的最外缘还包括一个与反应器(1)同轴的外围引导气流入口(2‑5)。
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