[发明专利]大转角压电扫描微镜无效
| 申请号： | 201010136889.8 | 申请日： | 2010-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101852917A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 温志渝;钱蓉蓉;陈李;温中泉;贺学锋 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;H01L41/09;G01B7/30 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 赵荣之 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单片集成的大转角压电扫描微镜，包括微反射镜面、压电微驱动器、角度传感器以及支撑框架，所述反射镜面、压电微驱动器以及支撑框架均制作在同一片硅基底上，反射镜面、压电微驱动器位于支撑框架结构的内部；本发明采用压电驱动方式对微镜进行驱动，压电微驱动器包括多条压电折叠梁，可在较低的工作电压下实现微镜的大角度扫描；微镜中部由一对扭转梁进行支承，使微镜绕扭转梁转动，从而限制了微镜面外的平动，增加了系统的稳定性；同时集成了压电式角度传感器，实现扫描角度的精确测量，因此无需外加角度检测装置，从而减小系统体积，本发明成果可广泛应用于微型光谱仪、光学成像等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 转角 压电 扫描 | ||
【主权项】：
大转角压电扫描微镜，其特征在于：所述微镜包括微反射镜面(1)、压电微驱动器(2)以及支撑框架(4)，所述反射镜面(1)、压电微驱动器(2)以及支撑框架(4)均制作在同一片硅结构层(5)上并以硅结构层(5)作为其共同的底层，所述反射镜面(1)、压电微驱动器(2)位于支撑框架(4)结构的内部；所述微反射镜面(1)包括所述硅结构层(5)和采用MOEMS工艺制作在硅结构层(5)上的反射膜层(10)；所述压电微驱动器(2)沿微反射镜面(1)的纵向中轴线对称设置在微反射镜面(1)的左、右两侧，同侧的压电微驱动器(2)之间沿微反射镜面(1)的横向中轴线上、下对称；每一压电微驱动器(2)为一只折叠梁，其上制作多段压电驱动结构(12)，所述压电驱动结构(12)包括采用MOEMS工艺从下到上依次层叠制作在硅结构层(5)上的下电极层(7)、压电层(8)和上电极层(9)；其中，每一压电微驱动器(2)靠近微反射镜面(1)一侧与微反射镜面(1)的硅结构层(5)相连接，而靠近支撑框架(4)一侧与支撑框架(4)的硅结构层相连接，实现对微反射镜面(1)的驱动和支撑；所述压电微驱动器(2)的电信号通过上、下电极层进行输入。
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