[发明专利]成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置。该成膜装置包括：载置台，其设在真空容器内且具有沿着以该载置台的中心部为中心的圆而形成的基板的载置区域；主气体供给部，其为了将反应气体供给到上述载置台的上述载置区域，与上述载置台相对设置；补偿用气体供给部，其为了对由上述主气体供给部供给的反应气体的在上述载置台的半径方向上的气体浓度分布进行补偿而将上述反应气体供给到上述载置台的表面上；旋转机构，其用于使上述载置台以该载置台的中心部为旋转轴而绕铅垂轴线相对于上述主气体供给部和补偿用气体供给部进行相对旋转。

主权项

一种成膜装置，该成膜装置在真空容器内将反应气体供给到基板的表面上从而形成薄膜，其中，该成膜装置包括：载置台，其设在上述真空容器内，且具有沿着以该载置台的中心部为中心的圆而形成的用于载置基板的载置区域；主气体供给部，其为了将反应气体供给到上述载置台的上述载置区域而与上述载置台相对设置；补偿用气体供给部，其为了对由上述主气体供给部供给的反应气体的在上述载置台的半径方向上的气体浓度分布进行补偿而将上述反应气体供给到上述载置台的表面上；旋转机构，其用于使上述载置台以该载置台的中心部为旋转轴而绕铅垂轴线方向相对于上述主气体供给部和补偿用气体供给部进行相对旋转。