[发明专利]双图案设计中的单元边界隔离的方法有效
申请号: | 201010106556.0 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN101799623A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 鲁立忠;郑仪侃;侯元德;侯永清;田丽钧 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 梁永 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 针对芯片布局设计双图案掩模组的方法包括设计标准单元。在每个标准单元中,所有的左边界图案都分配有第一标记和第二标记中的一个,而所有右边界图案都分配有第一标记和第二标记中的另一个。该方法还包括:在芯片布局的行中放置标准单元。从行中的一个标准单元开始,贯穿整行来传播针对标准单元的标记改变。具有第一标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第一掩模。具有第二标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第二掩模。 | ||
搜索关键词: | 图案 设计 中的 单元 边界 隔离 方法 | ||
【主权项】:
一种针对芯片布局设计双图案掩模组的方法,所述方法包括:指定第一图案组;指定第二图案组;指定包括左边界和右边界的单元,其中,所述单元中的所有左边界图案都在所述第一图案组和所述第二图案组的同一个中,以及所述单元中的所有右边界图案都在所述第一图案组和所述第二图案组的同一个中;将所述左边界图案转移到所述第一图案组和所述第二图案组中的不同图案组;将所述右边界图案转移到所述第一图案组和所述第二图案组中的不同图案组;将所述第一图案组中的图案转印到所述双图案掩模组的第一掩模;以及将所述第二图案组中的图案转印到所述双图案掩模组的第二掩模。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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