[发明专利]清洁腔室及工艺所用的等离子体源无效
| 申请号： | 200980141982.3 | 申请日： | 2009-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN102197714A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 迪米特里·卢伯米尔斯基;杨长奎;梁奇伟;马修·L·米勒;詹姆斯·桑托萨;陈兴隆;保罗·F·史密斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H05H1/36;H01L21/205;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;钟强 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在此处理基板及处理处理腔室的设备和方法。在一实施方式中，用以处理基板的设备包括功率源、耦接功率源的切换箱且切换箱设有可交换第一位置与第二位置的开关、耦接切换箱的第一匹配箱、耦接第一匹配箱的等离子体产生器、耦接切换箱的第二匹配箱、以及耦接第二匹配箱的远程等离子体源。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 工艺 所用 等离子体 | ||
【主权项】：
一种用以处理基板的设备，其包含：一功率源；一切换箱，耦接该功率源，该切换箱设有可交换一第一位置与一第二位置的一开关；一第一匹配箱，耦接该切换箱；一等离子体产生器，耦接该第一匹配箱；一第二匹配箱，耦接该切换箱；以及一远程等离子体源，耦接该第二匹配箱。
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