[实用新型]多晶硅氢还原炉尾气出口结构无效
申请号: | 200920207629.8 | 申请日: | 2009-08-10 |
公开(公告)号: | CN201473328U | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
发明(设计)人: | 程佳彪;周积卫;张华芹;康治政 | 申请(专利权)人: | 上海森和投资有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 | 代理人: | 严新德 |
地址: | 200240 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种多晶硅氢还原炉尾气出口结构,由还原炉上底板和还原炉下底板构成,上底板与下底板之间设置有冷却水腔,底盘中设置有复数个电极和气体进口,电极、气体进口分别分布在两个以上数目的同心圆周上,底盘中心设置有中心尾气出口,底盘中最外圈沿圆周方向设置有数个周边尾气出口,周边尾气出口的截面积相同。本实用新型保证了各尾气出口在相同压力下流量、流速相同,解决了多晶硅氢还原炉因炉内物料、温度分布不均匀而带来的硅棒沉积率低、生长不均匀的问题,而且尾气出还原炉时被有效、均匀的分流,不会导致尾气出口附近出现较大压差及扰流情况,从而减少大型还原炉倒棒情况。尾气出口与底盘冷却进水口均形成套管结构,能有效降低尾气出口处温度。 | ||
搜索关键词: | 多晶 还原 尾气 出口 结构 | ||
【主权项】:
一种多晶硅氢还原炉尾气出口结构,由还原炉上底板和还原炉下底板构成,所述的还原炉上底板设置在还原炉下底板的上方,还原炉上底板与还原炉下底板之间设置有冷却水腔,还原炉底盘中设置有复数个电极和气体进口,所述的电极分布在两个以上数目的同心圆周上,所述的气体进口分布在两个以上数目的同心圆周上,电极所在的任意一个圆周与气体进口所在的任意一个圆周均共圆心,还原炉底盘中心设置有一个中心尾气出口,所述的中心尾气出口与上述的所有圆周共圆心,其特征在于:还原炉底盘中沿圆周方向均匀设置有两个以上数目的周边尾气出口,所述的周边尾气出口所在的圆周与电极所在的圆周共圆心,周边尾气出口所在的圆周的半径大于电极所在的最大圆周的半径,所述的中心尾气出口和任意一个周边尾气出口下方的还原炉下底板中均各自设置有一个冷却水流通孔,任意一个所述的冷却水流通孔的直径均大于其上方的中心尾气出口或者周边尾气出口的直径,任意一个冷却水流通孔中均各自向下连接有一个底盘冷却水直管,中心尾气出口和任意一个周边尾气出口中均各自连接有一个尾气出口厚壁管,任意一个所述的尾气出口厚壁管均各自向下延伸并穿越还原炉下底板中的冷却水流通孔,任意一个尾气出口厚壁管的下端均各自在轴向上连接有一个气体出口直管,尾气出口厚壁管的外壁与冷却水流通孔的内壁之间设置有间隙,气体出口直管的外壁与底盘冷却水直管的内壁之间均设置有间隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海森和投资有限公司,未经上海森和投资有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920207629.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:玻璃生产线余热发电窑压稳定系统
- 下一篇:大功率交流永磁伺服电机转子结构