[实用新型]非接触式硅片测厚装置无效

专利信息
申请号: 200920047022.8 申请日: 2009-07-07
公开(公告)号: CN201449246U 公开(公告)日: 2010-05-05
发明(设计)人: 颜友钧;赵丹;郑钰 申请(专利权)人: 苏州工业园区瑞新自动化设备有限公司
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06
代理公司: 苏州市新苏专利事务所有限公司 32221 代理人: 许鸣石
地址: 215021 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种非接触式硅片测厚装置,它包括一对同心的相对设置的电容传感器,第一激励信号单元(11)依次连接第一电容传感器(10)、第一信号放大单元(12)、第一信号处理单元(13)、第一输出单元(15),第一信号处理单元(13)连接单片机(30),单片机(30)依次连接第一自动调零单元(14)、第一信号处理单元(13);第二激励信号单元(21)依次连接第二电容传感器(20)、第二信号放大单元(22)、第二信号处理单元(23)、第二输出单元(25),第二信号处理单元(23)连接单片机(30),单片机(30)依次连接第二自动调零单元(24)、第二信号处理单元(23)。本实用新型采用非接触方式测量,性能可靠,使用方便、智能程度高。
搜索关键词: 接触 硅片 装置
【主权项】:
一种非接触式硅片测厚装置,其特征在于:它包括有一对同心的相对设置的第一电容传感器(10)和第二电容传感器(20)、以及第一激励信号单元(11)、第一信号放大单元(12)、第一信号处理单元(13)、第一自动调零单元(14)、第一输出单元(15)、第二激励信号单元(21)、第二信号放大单元(22)、第二信号处理单元(23)、第二自动调零单元(24)、第二输出单元(25)、单片机(30);所述第一激励信号单元(11)依次连接第一电容传感器(10)、第一信号放大单元(12)、第一信号处理单元(13)、第一输出单元(15),并且,第一信号处理单元(13)连接单片机(30),单片机(30)连接第一自动调零单元(14),第一自动调零单元(14)连接第一信号处理单元(13);所述第二激励信号单元(21)依次连接第二电容传感器(20)、第二信号放大单元(22)、第二信号处理单元(23)、第二输出单元(25),并且,第二信号处理单元(23)连接单片机(30),单片机(30)连接第二自动调零单元(24),第二自动调零单元(24)连接第二信号处理单元(23)。
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