[实用新型]制备非晶硅薄膜的连续式等离子体增强化学气相淀积反应室

摘要

一种制备非晶硅薄膜的连续式等离子体增强化学气相淀积反应室，包括一个由底板和装在该底板上的反应罩组成的圆筒形大反应室，所述大反应室中设有一个入片室和三个结构相同的圆形小反应室，该三个圆形小反应室的轴心线均与大反应室的轴心线平行，且同一水平截面上所述三个圆形小反应室和入片室的圆心到大反应室圆心的距离均相等，该三个圆形小反应室和入片室的圆心分布在所述截面的同一圆周上。它可满足薄膜电池P、I、N层沉积，其结构较简单，适合用于做薄膜电池研制，并能满足小尺寸电池片的生产。

主权项

1、一种制备非晶硅薄膜的连续式等离子体增强化学气相淀积反应室，包括一个由底板(7)和装在该底板(7)上的反应罩(26)组成的圆筒形大反应室(1)，其特征是，所述大反应室(1)中设有一个入片室(2)和三个结构相同的圆形小反应室，该三个圆形小反应室的轴心线均与大反应室(1)的轴心线平行，且同一水平截面上所述三个圆形小反应室和入片室(2)的圆心到大反应室(1)圆心的距离均相等，该三个圆形小反应室和入片室(2)的圆心分布在所述截面的同一圆周上；并且：所述圆形小反应室由位于大反应室(1)下部的下反应室和位于大反应室上部并与所述下反应室相对的可升降上反应室组成；机械传送臂由位于所述大反应室(1)中心且相对于所述底板(7)为密封连接的转轴(6)和一端装在该转轴上的可升降横臂(17)组成，载有基片(16)的所述横臂(17)在转轴(6)驱动下可运行至所述下反应室和上反应室之间；载有基片(16)的所述横臂(17)运行至一个下反应室上方后，下降至该下反应室的上端口，相应的上反应室下降至该载有基片(16)的横臂(17)上而与该横臂(17)及所述下反应室组成密封的所述圆形小反应；入片室(2)由位于大反应室(1)底板(7)上并设有屏蔽层的电加热器(8)和位于该电加热器(8)上方并安装在大反应室(1)的所述反应罩(26)上的可开启密封门(25)组成。