[发明专利]图案形成方法

摘要

本发明提供一种图案形成方法，其包括在基材(11)上形成至少包含PS和PEO的二嵌段共聚物组合物的层(12)，使所述层经受相分离以获得相分离的层(13)，由此形成由PS构成并且具有沿第一方向延展的圆柱体或层状构型的易蚀刻区域(14)，在所述相分离的层上形成压印抗蚀剂层(16)，对所述压印抗蚀剂层进行压印，以在所述压印抗蚀剂层上形成沿与所述第一方向交叉的第二方向延展的由凸起(19)和凹陷(18)构成的不规则图案，从所述压印抗蚀剂层选择性地除去所述凹陷，由此仅剩下所述凸起，并且同时选择性地从所述相分离的层除去PS以获得包含PEO的耐蚀刻的图案，以及不仅使用所述凸起而且使用所述耐蚀刻的图案作为掩模来蚀刻所述基材。

主权项

1、图案形成方法，其特征在于包括：在基材(11)上形成包含组合物的层(12)，所述组合物含有可以相分离为第一相和比第一相显示更高的耐蚀刻性的第二相的二嵌段共聚物，所述第一相含有第一组分以及所述第二相含有第二组分；使所述二嵌段共聚物经受相分离以获得相分离的层(13)，由此形成由所述第一组分构成并且具有沿第一方向延展的圆柱体或者层状构型的易蚀刻区域(14)；在所述相分离的层上形成压印抗蚀剂层(16)；使用掩模图案(17)对所述压印抗蚀剂层进行压印，以在所述压印抗蚀剂层上形成沿与第一方向交叉的第二方向延展的并包含凸起(19)和凹陷(18)的不规则图案；从所述压印抗蚀剂层选择性地除去残留在不规则图案的每一凹陷底部的剩余抗蚀剂，由此仅剩下构成凸起的抗蚀剂，同时选择性地从所述相分离的层除去第一组分以获得含有第二组分的耐蚀刻的图案(15)；和不仅使用所述压印抗蚀剂层的凸起而且还使用所述含有第二组分的耐蚀刻的图案作为掩模来蚀刻所述基材。