[发明专利]氢气分离材料的制造方法有效
| 申请号： | 200810087927.8 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101274225A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 吉野泰 | 申请（专利权）人： | 诺利塔克股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘春成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够稳定制造性能均衡性好的氢气分离材料的制造方法。该方法包括：准备多孔质基材的基材准备工序；和蒸镀工序，采用使供给至该基材一个面的二氧化硅源与供给至另一个面的含氧气体进行反应的化学蒸镀法，在该基材上形成二氧化硅膜。上述蒸镀工序将分子内具有Si－Z－Si键(其中，Z为O或N)的硅化合物用作二氧化硅源。 | ||
| 搜索关键词： | 氢气 分离 材料 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氢气分离材料的制造方法，其通过在多孔质基材上形成二氧化硅膜，制造氢气分离材料，其特征在于，包括：准备所述多孔质基材的基材准备工序；和蒸镀工序，采用使供给至所述基材一个面的二氧化硅源与供给至该基材另一个面的含氧气体进行反应的化学蒸镀法，在该基材上形成二氧化硅膜，其中，所述蒸镀工序将分子内具有Si-Z-Si键的硅化合物(a)用作二氧化硅源，其中，Z为O或N。
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