[发明专利]电抛光用电解液配方及电解方法无效
申请号: | 200810067813.7 | 申请日: | 2008-06-10 |
公开(公告)号: | CN101603197A | 公开(公告)日: | 2009-12-16 |
发明(设计)人: | 张光宇 | 申请(专利权)人: | 深圳市域鑫实业有限公司 |
主分类号: | C25F3/30 | 分类号: | C25F3/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种电抛光用电解液配方及电解方法,包括电解液按一定脉冲频率冲击电解表面,使电解表面凸凹位置恰到好处地变换趋于平滑,提高产品表面质量和铬铁比,电解液配方包括有重量百分比组分为55-68%的磷酸,重量百分比组分为15-17%硫酸,以及重量百分比组分为8-19%的去离子水;电解方法为采用直流电源进行电解,被抛光工件与直流电负极连接作为阴极,电解阳极与直流电正极连接作为阳极,电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动。 | ||
搜索关键词: | 电抛光 用电 配方 电解 方法 | ||
【主权项】:
1、一种电抛光用电解液的配方,其特征在于,该电抛光电解液配方包括有重量百分比组分为55-68%的磷酸,重量百分比组分为15-17%硫酸,以及重量百分比组分为8-19%的去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市域鑫实业有限公司,未经深圳市域鑫实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810067813.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:垂直立体车库的运行提速方法
- 下一篇:一种新型炒麦香精
- 同类专利
- 带有电极的喷头装置-201410235874.5
- 金一诺;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
- 2014-05-30 - 2019-04-05 - C25F3/30
- 本发明揭示了一种带有电极的喷头装置,该喷头装置包括绝缘基座、外电极、外绝缘遮盖、内电极、内绝缘遮盖、排液槽及绝缘导流管。绝缘基座具有绝缘基体。外电极固定并覆盖在绝缘基体的内侧壁及顶壁。外绝缘遮盖包括绝缘管体及由绝缘管体顶端部的外侧壁向外延伸形成的绝缘盖体,绝缘管体收容于外电极的收容腔并伸出该收容腔外,绝缘盖体位于固定在绝缘基体顶壁的外电极的上方,绝缘管体的内侧壁围成的通道被定义为主流体通道,绝缘管体的外侧壁与外电极的内侧壁之间间隔一定距离,形成辅助流体通道。内电极设置在外绝缘遮盖的绝缘管体内。内绝缘遮盖罩设在内电极的外围,内绝缘遮盖的顶端低于外绝缘遮盖的绝缘管体的顶端。排液槽收集抛光液。
- 脉冲电化学抛光工艺中优化工艺配方的方法-201410365997.0
- 金一诺;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
- 2014-07-29 - 2019-04-05 - C25F3/30
- 本发明提出了一种脉冲电化学抛光工艺中优化工艺配方的方法,包括:步骤1:获取晶圆厚度前值的分布信息,并导入一个原有的工艺配方;步骤2:计算并生成不同晶圆半径处相对运动速度的对应关系,该对应关系已被修正;步骤3:计算并生成晶圆上任一点处电流占空比分布的对应关系,该对应关系已被修正;步骤4:生成一个新的工艺配方替换所述原有的工艺配方,所述新的工艺配方中包含已被修正的相对运动速度的对应关系以及已被修正的电流占空比分布的对应关系。本发明同时考虑了喷头的相对运动速度及电流占空比两大因素,对抛光的去除率进行了控制。
- 电化学抛光装置及方法-201410067707.4
- 金一诺;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
- 2014-02-26 - 2018-09-04 - C25F3/30
- 本发明揭示了一种电化学抛光装置,包括晶圆夹盘和喷嘴,晶圆夹盘开设有数个晶圆凹槽,数个晶圆凹槽均匀分布在晶圆夹盘的圆心至晶圆夹盘的外边缘之间。数个晶圆凹槽的直径相等,数个晶圆凹槽的圆心分布在以晶圆夹盘的圆心为中心的同心圆上,且每一个晶圆凹槽的圆心位于晶圆夹盘的圆心至晶圆夹盘的外边缘的半径的中点上。晶圆夹盘和喷嘴相对线性运动。本发明还提出一种使用电化学抛光装置抛光晶圆的方法,适用上述的电化学抛光装置包括晶圆夹盘和喷嘴,在抛光晶圆时,使夹持有数片晶圆的晶圆夹盘和喷嘴相对线性运动,运动范围在晶圆夹盘的圆心与晶圆夹盘的外边缘之间或晶圆凹槽的直径范围内。
- 电抛光用电解液配方及电解方法-200810067813.7
- 张光宇 - 深圳市域鑫实业有限公司
- 2008-06-10 - 2009-12-16 - C25F3/30
- 本发明涉及一种电抛光用电解液配方及电解方法,包括电解液按一定脉冲频率冲击电解表面,使电解表面凸凹位置恰到好处地变换趋于平滑,提高产品表面质量和铬铁比,电解液配方包括有重量百分比组分为55-68%的磷酸,重量百分比组分为15-17%硫酸,以及重量百分比组分为8-19%的去离子水;电解方法为采用直流电源进行电解,被抛光工件与直流电负极连接作为阴极,电解阳极与直流电正极连接作为阳极,电解液在电解阳极和作为阴极的工件被抛光面之间脉冲性流动。
- 专利分类