[发明专利]基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法无效
| 申请号： | 200810063984.2 | 申请日： | 2008-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101231463A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 金鹏;刘楠;高育龙;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法涉及光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶与连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下三个步骤：①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模；②应用纳米压印技术将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；其特征在于，该方法所使用的纳米压印技术为紫外压印技术，并且该方法还包括以下步骤，③以聚合物结构为掩模，通过干法刻蚀技术实现微细结构图形向硬质基片的传递，应用该方法可以实现单一材料且表面具有多相位或连续浮雕结构的非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工，较传统方法具有更大的加工能力。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 紫外 压印 多相 连续 浮雕 结构 光学 元件 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于紫外压印技术的多相位与连续浮雕结构微光学元件制作的方法，具体包括以下步骤：①应用微细加工技术制备用于加工多相位或连续浮雕结构微光学元件所需的微细结构压模；②应用纳米压印技术将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；其特征在于，该方法所使用的纳米压印技术为紫外压印技术，并且该方法还包括以下步骤，③以聚合物结构为掩模，通过干法刻蚀技术实现微细结构图形向硬质基片的传递，应用该方法实现单一材料且表面具有多相位或连续浮雕结构的非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工。
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