[发明专利]一种中温珍珠抛光方法无效
| 申请号： | 200810063550.2 | 申请日： | 2008-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN101314213A | 公开（公告）日： | 2008-12-03 |
| 发明（设计）人： | 戚鸟定 | 申请（专利权）人： | 浙江天使之泪珠宝有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/00 | 分类号： | B24B31/00;B24B31/14;B24B1/00 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 311800浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种珍珠中温抛光技术，包括以下步骤：(1)在抛光设备内置入抛光料；(2)设定抛光设备转速150～180转/分钟，预运行至设备内工作温度达到50℃～60℃；(3)在抛光设备内置入珍珠，转速提至200～220转/分钟进行抛光，设备内工作温度升至90℃～100℃时；(4)将抛光设备转速降至120～150转/分钟，使设备内工作温度下降至50℃～100℃；(5)关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。本发明通过抛光设备提供不同的速度，产生不同的工作温度控制珍珠表层的磨损程度及抛光料的工作状况，既能达到优质的珍珠抛光效果，又能避免由于工作温度过高给珍珠表层造成较大的磨损伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 珍珠 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种珍珠中温抛光方法，包括以下步骤：(1)在抛光设备内置入抛光料；(2)设定抛光设备转速150～180转/分钟，预运行至设备内工作温度达到50℃～60℃；(3)在抛光设备内置入珍珠，转速提至200～220转/分钟进行抛光，设备内工作温度升至90℃～100℃时；(4)将抛光设备转速降至120～150转/分钟，使设备内工作温度下降至60℃～80℃；(5)关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。
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