[发明专利]光学用浅色低应力改性环氧胶粘剂及制备方法有效

专利信息
申请号: 200810058911.4 申请日: 2008-09-12
公开(公告)号: CN101348701A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 句红兵;罗海玲;李妹明;程荣梁;李进伟 申请(专利权)人: 云南光电辅料有限公司
主分类号: C09J163/00 分类号: C09J163/00;C09J163/04;C09J171/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650114云南省昆明*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种新型光学用浅色低应力改性环氧胶粘剂及制备方法,该胶粘剂由甲、乙双组分组成,甲组分包括聚氨酯改性环氧树脂(30%~70%)、酚醛环氧树脂(20%~40%)、多元醇缩水甘油醚环氧树脂(10%~30%)、混合抗老剂(1%~3%)和增塑剂(5%~20%),乙组分包括端氨基聚醚(50%~90%),脂肪胺环氧固化剂(10%~50%),硅烷偶联剂(1%~5%)及固化促进剂(0%~10%)。甲、乙组份重量配比为2.5~3.5∶1,两组分各自重量百分数之和为100%。本发明制成的环氧胶固化后收缩小,柔韧性好,应力小,粘接力强,耐候性好,色泽浅。可用于对应力要求苛刻,对透过率要求不太高的光学元件光路粘接,若添加填料及触变剂也可用于对应力要求苛刻的精密光学仪器非光路的粘接。
搜索关键词: 光学 浅色 应力 改性 胶粘剂 制备 方法
【主权项】:
1、一种光学用浅色低应力改性环氧胶粘剂,其特征在于它由甲、乙双组分组成,精密光学仪器非光路粘接时所用触变剂为气相法二氧化硅,填料为沉淀法二氧化硅或硅微粉,着色剂依颜色而定,甲组分含有聚氨酯改性环氧树脂、浅色酚醛环氧树脂、多元醇缩水甘油醚环氧树脂、混合抗老剂和增塑剂,各组分的重量份数配比如下:聚氨酯改性环氧树脂 30%~70%酚醛环氧树脂 20%~40%多元醇缩水甘油醚环氧树脂 10%~30%混合抗老剂 1%~3%增塑剂 5%~20%乙组分包括端氨基聚醚,脂肪胺,硅烷偶联剂系剂及固化促进剂,各组分的重量份数配比如下:端氨基聚醚 50%~90%改性脂肪胺环氧固化剂 10%~50%硅烷偶联 1%~5%固化促进剂 0%~10%两组分各自重量百分数之和为100%。
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