[发明专利]彩膜基板及其制造方法有效
| 申请号： | 200810038305.6 | 申请日： | 2008-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101329465A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 田广彦 | 申请（专利权）人： | 上海广电光电子有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人： | 白璧华 |
| 地址： | 200233上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法，该彩膜基板包括一基板；一黑矩阵，形成在该基板上，定义出多个子像素区域，该黑矩阵为含有导电材料的挡光层；多个色素层，每个色素层形成在一个子像素区域中；一透明导电膜，覆盖在黑矩阵和色素层上方；其中所述未被色素层覆盖的黑矩阵的导电材料裸露出来与该透明导电膜电学连接。本发明的彩膜基板可降低共通电极上的信号延迟，改善液晶显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种彩膜基板，包括一基板；一黑矩阵，形成在该基板上，定义出多个子像素区域，该黑矩阵为含有导电材料的挡光层；多个色素层，每个色素层形成在一个子像素区域中；一透明导电膜，覆盖在黑矩阵和色素层上方；其特征在于所述未被色素层覆盖的黑矩阵的导电材料裸露出来与该透明导电膜电学连接。
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