[发明专利]一种测量纳米材料光致硬化性能的方法无效

专利信息
申请号: 200810030576.7 申请日: 2008-01-30
公开(公告)号: CN101231275A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 郑学军;王甲世;陈义强;杨博;龚伦军 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 4111*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种测量纳米材料光致硬化性能的方法,包括以下步骤:(1)将光辐照系统引入三片电容板传感纳米探针装置,通过滤波机构对入射光束进行调制;(2)利用纳米探针对无光照下的纳米材料实施原位压入检测,得到纳米材料无光照下的等效模量;(3)将功率密度为0.2-0.8mW/cm2入射光束引入纳米探针装置,光束入射到金刚石纳米探针与纳米材料相接触区域。入射光束辐照下对纳米材料实施原位压入检测,得到纳米材料光辐照下的等效模量;(4)先计算纳米材料光辐照下的等效模量与无光照下的等效模量的差值,该差值与无光照下的等效模量的百分比,即为纳米材料的光致硬化性能。本发明具有如下的有益效果,引入外部可调光源,具有灵活性强、应用范围广的特点。它可解决测量纳米材料在光辐照下光致硬化性能的技术难题,避免了传统的原子力显微镜技术中固有激光的影响。该方法简单易行,能精确地测量纳米材料的光致硬化性能。
搜索关键词: 一种 测量 纳米 材料 硬化 性能 方法
【主权项】:
1.一种测量纳米材料光致硬化性能的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将光辐照系统引入三片电容板传感纳米探针装置,通过滤波机构对入射光束进行调制;(2)利用纳米探针对无光照下的纳米材料实施原位压入检测,得到纳米材料无光照下的等效模量;(3)将功率密度为0.2-0.8mW/cm2入射光束引入纳米探针装置,光束入射到金刚石纳米探针与纳米材料相接触区域,入射光束辐照下对纳米材料实施原位压入检测,得到纳米材料光辐照下的等效模量;(4)先计算纳米材料光辐照下的等效模量与无光照下的等效模量的差值,该差值与无光照下的等效模量的百分比,即为纳米材料的光致硬化性能。
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