[发明专利]一种用于微光刻的照明光学系统有效
| 申请号： | 200710173570.0 | 申请日： | 2007-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101216676A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 张祥翔 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于微光刻的照明光学系统，使用多个汞灯作为光源，大大提高了总的光源能量，而不会使单个光源能量过大，使用多个石英棒，2组微透镜阵列作为匀光器件，有效地提高了照明均匀性和照明场光强。本发明可以作为365－465nm光刻设备的照明系统，或其他照明系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 微光 照明 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于微光刻的照明光学系统，其特征在于：包括：两个或两个以上带椭球反射镜的高压汞灯光源；与所述高压汞灯光源数目相同的石英棒匀光系统；二次匀光系统；聚光镜模块；中继透镜模块；和掩模板；所述高压汞灯光源位于所述椭球反射镜的一个焦点上；所述高压汞灯光源发出的光进入所述石英棒匀光系统；所述石英棒匀光系统射出的光同时进入所述二次匀光系统；所述二次匀光系统出射的光进入所述聚光镜模块；经过聚光镜模块后，次级光源成像在所述中继透镜模块的物方焦面；所述中继透镜模块在掩模板位置形成远心照明视场。
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