[发明专利]轨迹形成方法、液滴喷出装置以及电路模块无效
申请号: | 200710100896.0 | 申请日: | 2007-04-24 |
公开(公告)号: | CN101062608A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 三浦弘纲 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J3/407;H01R12/00;H05K3/10;H05K3/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种轨迹形成方法,在该方法中,向衬底喷出轨迹形成材料的液滴,通过激光照射喷落在所述衬底上的液滴(单个)来干燥该液滴,形成由所述液滴构成的轨迹,使用P偏振光成分为80%~100%的偏振光来作为激光。 | ||
搜索关键词: | 轨迹 形成 方法 喷出 装置 以及 电路 模块 | ||
【主权项】:
1.一种轨迹形成方法,其特征在于,向衬底喷出轨迹形成材料的液滴,通过激光照射喷落在所述衬底上的液滴来干燥该液滴,形成由所述液滴构成的轨迹,使用P偏振光成分为80%~100%的偏振光来作为激光。
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