[发明专利]金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体及制备方法有效
| 申请号： | 200710098620.3 | 申请日： | 2007-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101295560A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 杨坚;张华;刘慧舟;周其;古宏伟 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | H01B12/06 | 分类号： | H01B12/06;H01B13/00;C23C14/35;C23C14/54;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜、超导层YBCO。一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr－Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈；(9)磁控溅射沉积YBCO涂层；(10)得到金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，并在其上外延生长YBCO涂层。本发明的每层膜的生长均采用磁控溅射方法，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基带 生长 多层 隔离 ybco 涂层 导体 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体，其特征在于：是在具有立方织构的金属基带上生长多层立方织构氧化物隔离层和超导层，所述的隔离层在金属基带上依次由氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜组成，超导层为YBCO，生长在隔离层上。
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