[发明专利]偏光板保护膜的碱化处理方法无效
| 申请号： | 200710000971.6 | 申请日： | 2007-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101226253A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 毛利聪;西祯造;陈川彬;黄晨洲 | 申请（专利权）人： | 毛利聪;西工业株式会社;奇美材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10;G02F1/1335;C08J7/04;C08L1/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 日本崎玉*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明一种偏光板保护膜的碱化处理方法。特别是提供一种偏光板的制造方法中，偏光子与保护膜间的接着强度佳的偏光板保护膜的碱化处理方法。该方法包含一种偏光板保护膜的单面碱化处理方法，其方法包含将含有0.01重量％以上的水溶性聚合物或共聚合物的碱性水溶液，涂布在保护膜的单面上，经加热后，再将涂布面上的残渣洗净。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 保护膜 碱化 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种偏光板保护膜的单面碱化处理方法，其包含将含有0.01重量％以上的水溶性聚合物或共聚合物的碱性水溶液，涂布在保护膜的单面上，经加热后，再将涂布面上的残渣洗净。
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