[发明专利]高分子化合物及用其形成的高分子发光元件无效
| 申请号： | 200680037672.3 | 申请日： | 2006-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN101283019A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 小林谕;小林重也 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C07D265/38;C07D279/22;C09K11/06;H01L51/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及含有由式(1)表示的化合物残基的高分子化合物。式中，C1环、C2环及C3环各自独立地表示芳香烃环或杂环。A1表示含有选自硼原子、碳原子、氮原子、氧原子、磷原子、硫原子及硒原子中的一种以上原子的2价基团。R1表示烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳烷基、芳烷氧基、芳烷硫基、烯基、炔基、二取代氨基、三取代甲硅烷基、酰基、酰氧基、亚胺残基、酰胺基、酰亚胺基、1价杂环基、取代羧基、杂芳氧基或杂芳硫基，或与结合有R1的C3环上的原子的相邻原子结合形成环。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子化合物 形成 高分子 发光 元件 | ||
【主权项】：
1、一种高分子化合物，其中，含有由下述式(1)表示的化合物残基，![]()
式中，C1环、C2环及C3环各自独立地表示芳香烃环或杂环，A1表示含有选自硼原子、碳原子、氮原子、氧原子、磷原子、硫原子及硒原子中的一种以上原子的2价基团，R1表示烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳烷基、芳烷氧基、芳烷硫基、烯基、炔基、二取代氨基、三取代甲硅烷基、酰基、酰氧基、亚胺残基、酰胺基、酰亚胺基、1价杂环基、取代羧基、杂芳氧基或杂芳硫基，或与结合有R1的C3环上的原子的相邻原子结合形成环。
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