[发明专利]栅格偏振膜、栅格偏振膜的制造方法、光学叠层体、光学叠层体的制造方法和液晶显示装置无效
| 申请号： | 200680018662.5 | 申请日： | 2006-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN101185013A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 上岛贡;村上俊秀;涩谷明庆;藤田惠美;林昌彦;荒川公平 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种长带状的栅格偏振膜，其包括：长带状的树脂膜和设置在该树脂膜的表面和/或内部的相互大致平行延伸的多条栅格线，该栅格线由双折射率(N1＝n1－iκ1)的实部n1和虚部κ1之差的绝对值为1.0以上的材料G构成，上述树脂膜的表面上形成相互大致平行延伸的多条沟槽，上述栅格线由叠层在沟槽的底面上和/或位于相邻沟槽间的垄的顶面上的材料G的薄膜构成。还提供一种包含该长带状栅格偏振膜和其他长带状偏振光学膜的长带状光学叠层体。 | ||
| 搜索关键词： | 栅格 偏振 制造 方法 光学 叠层体 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种长带状的栅格偏振膜，其包括：长带状的树脂膜和设置在该树脂膜的表面和/或内部的相互大致平行延伸的多条栅格线；所述栅格线由双折射率(N1＝n1-iκ1)的实部n1和虚部κ1之差的绝对值为1.0以上的材料G构成。
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