[发明专利]带有布置于平面中的前腔室的气体分配器

摘要

一种用于CVD或OPVD反应器的气体分配器，包括两个或更多的气体空间(1、2)，在每个空间中开有用于过程气体的供应管线(3、4)，每个气体空间(1、2)都连接到用于各个过程气体的多个出口开口(6、7)上，所述开口出口开在气体分配器的底部(5)中。为了增加气体成分的均质性，两个气体空间(1、2)具有位于共用第一平面(8)的前腔室(10、10’、11)，分别与一个气体空间相关联的多个气体分配腔室(12、13)设置在第二平面(9)中，临近气体分配器的底部，每个气体空间(1、2)的前腔室(10、10’、11)和气体分配腔室(12、13)通过连接通道(14、15)连接。

主权项

1.一种用于CVD或OVPD反应器中的气体分配器，带有两个或更多的气体空间(1、2)，在每个空间中开有用于过程气体的供应管线(3、4)，每个气体空间(1、2)都连接到用于各个过程气体的多个出口(6、7)上，所述出口开在气体分配器的底部(5)中，其特征在于，两种过程气体首先在第一平面中的径向方向上分布且随后在第二平面中的周缘方向上分布。