[发明专利]薄膜晶体管面板的制造及清洁有效
| 申请号： | 200610161859.6 | 申请日： | 2006-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1979346A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 朴弘植 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/32;G03F7/26;H01L21/84;H01L21/768;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 薄膜晶体管阵列面板的制造方法包括：在基板上沉积包含铝的第一薄膜、通过光刻法和蚀刻法对第一薄膜进行图案化、清洁包括第一薄膜的基板、以及在已清洁的基板上沉积第二薄膜。清洁是通过使用包含超纯水、环胺、焦酚、苯并三唑、以及乙二醇一甲醚的清洁材料进行的。该清洁材料包含大约85wt％至大约99wt％的超纯水、大约0.01wt％至大约1.0wt％的环胺、大约0.01wt％至1.0wt％的焦酚、大约0.01wt％至1.0wt％的苯并三唑、以及大约0.01wt％至1.0wt％的乙二醇一甲醚。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 面板 制造 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种用于薄膜晶体管阵列面板的清洁材料，包括：超纯水(H2O)；环胺；焦酚；苯并三唑；以及乙二醇一甲醚。
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