[发明专利]薄膜图案层及其制造方法无效
| 申请号： | 200610149773.1 | 申请日： | 2006-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN101191857A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 周景瑜;陈文卿 | 申请（专利权）人： | ICF科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/23 | 分类号： | G02B5/23;B41J2/01;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 美国加州圣塔*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜图案层，其包括：一个基板；形成于基板上的多个挡墙，该多个挡墙间形成多个收容空间；及多个形成在收容空间内的薄膜层，其中，每行中的薄膜层厚度的分布是无规律的。所述的薄膜图案层，通过每行中同种材料的薄膜层厚度的无规律分布，使该行中同种材料的薄膜层厚度均匀性被打乱，变得不均匀，从而使光透过其后所产生的条纹缺陷减少或消除。本发明还提供一种薄膜图案层的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 图案 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜图案层，包括：一个基板；形成于基板上的多个挡墙，该多个挡墙间形成多个收容空间，该收容空间呈行列状排列；及多个形成在收容空间内的薄膜层；其特征在于：每行中的薄膜层厚度的分布是无规律的。
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