[发明专利]磁记录介质,制造磁记录介质的方法和磁记录装置无效
| 申请号： | 200610082664.2 | 申请日： | 2006-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN1870142A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 兵藤浩之 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/62 | 分类号： | G11B5/62 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质，包含一个非磁性衬底(11)，在非磁性衬底(11)上沉积的磁记录层(13)，磁记录层(13)上彼此隔离的图形，填充在磁记录层(13)图形之间的非磁性材料(14)，在磁记录层(13)的图形和非磁性材料(14)上沉积的金属膜(15)，以及在金属膜(15)上沉积的碳保护膜(16)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种磁记录介质，其特征在于包括：一个非磁性衬底(11)；在该非磁性衬底(11)上形成的磁记录层(13)的彼此隔离的图形和填充在该磁记录层(13)的图形之间的非磁性材料(14)；金属膜(15)，形成在该磁记录层(13)的图形和该非磁性材料(14)之上；以及碳保护膜(16)，形成在该金属膜(15)之上。
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