[发明专利]基板结构及薄膜图案层的制造方法无效
| 申请号： | 200610007551.6 | 申请日： | 2006-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101021631A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 周景瑜;许艳惠;陈伟源 | 申请（专利权）人： | 虹创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G03F7/00;H01L23/12;B41J2/01 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾省新竹科学工业园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板结构，其包括一个基板及多个形成于该基板上的挡墙，该多个挡墙与基板之间形成多个收容空间。该基板结构进一步包括一层扩散控制层，该扩散控制层位于多个收容空间内的基板上，该扩散控制层能减小填充至该多个收容空间的墨水的扩散速度或扩散范围，而能改善墨水与挡墙间的接触角问题。本发明还涉及一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一种上述的基板结构；通过一个喷墨装置将墨水填充于该多个收容空间中；干燥固化该收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。 | ||
| 搜索关键词： | 板结 薄膜 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板结构，包括：一个基板；及多个形成于该基板上的挡墙，该多个挡墙与基板之间形成多个收容空间；其特征在于：该基板结构进一步包括一层扩散控制层，该扩散控制层位于多个收容空间内的基板上，该扩散控制层能减小填充至该多个收容空间的墨水的扩散速度或扩散范围。
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