[发明专利]发光装置及相关制造方法无效

专利信息
申请号: 200580045147.1 申请日: 2005-12-16
公开(公告)号: CN101444143A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 斯塔利尔·波波维奇 申请(专利权)人: 特勒根公司
主分类号: H05B37/00 分类号: H05B37/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 朦;方 挺
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种发光装置包括具有表面部分的外壳、位于外壳内的冷阴极、设置于表面部分的内表面的荧光层、位于冷阴极和荧光层之间的引出栅极、以及位于引出栅极和荧光层之间的发散栅极。当由于在冷阴极、引出栅极、发散栅极和荧光层处施加电压而在冷阴极和荧光层之间建立电场时,从冷阴极发射的电子被发散栅极发散并撞击荧光层。荧光层响应于入射到其上的电子而通过表面部分发光。也可以存在二次电子发射,以增加撞击荧光层的电子,从而增大光输出。可以包括镜面层以将光向着发光装置的表面部分反射。镜面层还抑制低能量的电子撞击荧光层,从而提高发光装置的闪光率。
搜索关键词: 发光 装置 相关 制造 方法
【主权项】:
1. 发光装置,包括:外壳,具有表面部分;位于所述外壳内的冷阴极;设置于所述表面部分的内表面的荧光层;位于所述冷阴极和所述荧光层之间的引出栅极;位于所述引出栅极和所述荧光层之间的发散栅极;由于在所述冷阴极、所述引出栅极、所述发散栅极和所述荧光层处施加电压而在所述冷阴极和所述荧光层之间建立电场时,来自所述冷阴极的电子被所述发散栅极发散并撞击所述荧光层,所述荧光层响应于入射到其上的电子而通过所述表面部分发光。
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