[发明专利]提供通过不同相移孔径的平衡光强度的相移掩模及形成这种相移掩模的方法无效
| 申请号： | 200580040126.0 | 申请日： | 2005-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101065647A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | G·陈;F·D·卡尔克 | 申请（专利权）人： | 凸版光掩膜公司 |
| 主分类号： | G01F9/00 | 分类号： | G01F9/00;G03F9/00;G03C5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;王忠忠 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种光掩模可包括图案形成层、邻近图案形成层的相移层、第一孔径、第二孔径和光吸收层。第一孔径可允许光穿过图案形成层和相移层，并提供第一相移。第二孔径可允许光穿过图案形成层和相移层，并提供不同于第一相移的第二相移。光吸收层可以邻近第一孔径设置，并可包括光吸收材料，光吸收材料降低了穿过第一孔径的光强度，使得穿过第一孔径的光强度基本上等于穿过第二孔径的光强度。 | ||
| 搜索关键词： | 提供 通过 不同 相移 孔径 平衡 强度 形成 这种 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成提供通过不同相移孔径基本上平衡光强度的光掩模的方法，包括：提供光掩模结构，所述光掩模结构包括图案形成层、邻近所述图案形成层的相移层、可操作以允许光穿过所述图案形成层和所述相移层并提供第一相移的第一孔径、以及可操作以允许光穿过所述图案形成层和所述相移层并提供不同于第一相移的第二相移的第二孔径；以及邻近第一孔径形成光吸收层，所述光吸收层包括光吸收材料，所述光吸收材料可操作以降低穿过第一孔径的光强度，使得穿过第一孔径的光强度基本上等于穿过第二孔径的光强度。
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