[实用新型]光掩模铬版激光微修补送粉装置无效
申请号: | 200420120299.6 | 申请日: | 2004-12-23 |
公开(公告)号: | CN2760614Y | 公开(公告)日: | 2006-02-22 |
发明(设计)人: | 陈继民;阳建华;左铁钏 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F7/20 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 魏聿珠 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光掩模铬版激光微修补送粉装置,由粉末腔、平衡腔、气压腔与温度控制器四部分组成;粉末腔与气压腔通过平衡腔贯通连接,粉末腔与温度控制器通过传输线连接构成整体。工作过程为:将粉末腔抽真空后,在粉末腔和气压腔内注入保护气,调节腔压;然后关闭保护气,调节温度控制器加热放置在粉末腔底部的六羰基铬粉末,使其受热升华均匀分布在保护气中。温度传感器检测粉末腔内温度场的高低,通过调节温度控制器控制加热装置电流大小,以调节六羰基铬粉末的升华量及其升华速度。同时粉末腔再注入保护气、打开粉末输出阀,六羰基铬粉末即以混合均匀的混合气形式输送出去。该装置具有结构简单,工作可靠等特点,完全适合光掩模铬版激光微修补的需要。 | ||
搜索关键词: | 光掩模铬版 激光 修补 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光掩模铬版激光微修补送粉装置,其特征在于:该装置由粉末腔(14)、平衡腔(5)、气压腔(1)与温度控制器(9)四部分组成;其中:粉末腔(14)的两侧分别设置有连接着保护气输入管(12)的保护气输入阀(13)与连接着粉末输送管(7)的粉末输出阀(6),粉末腔(14)的顶部设置有真空抽气孔(15);气压腔(1)的外壁上设置有进气阀(2)和气压表(3);将粉末腔(14)与气压腔(1)通过平衡腔(5)贯通连接,粉末腔(14)与温度控制器(9)通过电信号传输线连接构成该装置整体;该装置各部件之间均采用常规连接技术。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200420120299.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备