[发明专利]红外反射器和使用该红外反射器的红外辐射器无效
| 申请号： | 200410083291.1 | 申请日： | 2004-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN1591049A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | H·－J·施密德特 | 申请（专利权）人： | 电灯专利信托有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/12 | 分类号： | G02B5/12;F21V7/00;H01K1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 红外反射器和使用该红外反射器的红外辐射器。本发明涉及红外反射器，其反射表面(61)由铜组成。此外，涉及红外辐射器，有一个作为辐射源的卤素白炽灯(1)和一个具有铜组成的反射表面(61)的反射器(6)。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 反射 使用 辐射器 | ||
【主权项】：
1.具有一个反射红外辐射表面(61)的反射器，其特征在于，该表面(61)是由铜组成。
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- 本发明公开了一种花式反光植珠膜的生产工艺。包括如下步骤：S1、植珠：将玻璃微珠植入于基材上，形成玻璃微珠层；S2、印刷花型：将步骤S1中的玻璃微珠层表面印上带有可水洗的第一介质的花型层，形成第一半成品；S3、镀介质：将步骤S2的第一半成品上镀第二介质，使得玻璃微珠层及花型层的表面均镀有第二介质，形成第二半成品；S4、冲洗：冲洗步骤S3中的第二半成品，将带有可水洗的第一介质的花型层洗除，于玻璃微珠层上形成带有第二介质的花型样式，得到第一前期成品。本发明突破行业难点，可制备出花式反光植珠膜，可形成多种具有七彩反光、高亮反光样式的反光植珠膜，在能够起到反光警示的前提作用下，使得样式更为新颖，用途更为广泛。
- 一种花式反光布及其制备方法-202310307547.5
- 王世杰;查伟强;施威;曾琦 - 浙江星华新材料集团股份有限公司
- 2023-03-27 - 2023-07-18 - G02B5/128
- 本发明公开了一种花式反光布，所述花式反光布的构造自上至下依此为玻璃微珠，黏合剂B，金属层，黏合剂A，基布。本发明采用分子量为50000‑200000,粘度为20000‑30000mpa.s聚氨基甲酸酯类聚合物作为粘合剂A可以使基布与金属层间实现优异的粘合效果，提高粘结牢度，改善耐水洗性能。并且采用折射率为1.5‑2.2的玻璃微珠，被胶黏B包裹后，与金属层共同作用产生优异的反光效果，并且玻璃微珠之间可以通过不同的排列方式实现不同的反光花色，进一步优化了反光效果。同时不采用基布表面整体涂覆的方式，采用黏合剂A包裹金属层，黏合剂B，玻璃微珠的结构，形成的花式反光布手感柔软，透气性佳。
- 高折射率材料上的类布拉格光栅-201880094745.5
- M·E·科尔伯恩;N·R·莫汗蒂 - 元平台技术有限公司
- 2018-07-27 - 2023-07-18 - G02B5/126
- 公开了用于制造倾斜结构的技术。在一个实施例中，一种用于在材料层上制造倾斜结构的方法包括：在材料层上形成掩模层；以及使用离子束和掩模层，以大于零的倾斜角，将离子注入到材料层的多个区域中。相对于材料层的表面法线测量倾斜角。将离子注入到材料层的多个区域中改变了材料层的多个区域的折射率或蚀刻速率。在一些实施例中，方法还包括：使用蚀刻剂来湿法蚀刻材料层，以去除材料层的多个区域中的材料。在一些实施例中，方法包括：通过在进料气体中使用反应性蚀刻剂的干法蚀刻过程，与注入同时或在注入后蚀刻改性的材料。
- 一种布撒式光学角反射器-202310380937.5
- 张恒伟;陈育斌;王东;苗锡奎;李路遥;彭锦超;邹前进;刘小虎;路亚旭 - 中国人民解放军63891部队
- 2023-04-11 - 2023-07-07 - G02B5/122
- 一种布撒式光学角反射器，由8×4ⁿ个三棱锥镜构成类球体结构，N为正整数，所述的三棱锥镜的镜面镀有高反膜；入射光线从任意角度照射到光学角反射器上的任一或多个角锥棱镜，均能以与入射方向相反的方向原路返回，无需架设、无需调节，适用于室外使用；宽带或典型激光波长窄带高反膜，可以降低对反射光的损耗，提高回光信号强度，进一步提高探测距离。
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