[发明专利]错纹防伪技术无效
| 申请号： | 200410067724.4 | 申请日： | 2004-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN1769074A | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 李坤;黄秀柳;黄银龙;朱静;崔世锋;徐丛宇;李宁 | 申请（专利权）人： | 公安部第三研究所 |
| 主分类号： | B44F1/12 | 分类号： | B44F1/12;B41M3/00 |
| 代理公司： | 上海市沪一律师事务所 | 代理人： | 林建华 |
| 地址： | 2000*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种错纹防伪技术，涉及一种防伪印刷技术，尤其是一种能防止部分拼接的错纹防伪技术。其特征在于在一种产品中，每个印刷在承印物上的底纹都是不同的，并且有两组或两组以上相互独立的底纹，其相互位置不固定、错开，当用一个承印物上的部分拼接到另一个承印物上时，两组或两组以上的底纹最多只有一组底纹能完全拼接成功，而其它组底纹不能拼接成功，在每个承印物上有两组或两组以上相对位置不固定的底纹包括文字、标记、图案、图像。本发明的有益效果是，防止承印物上二次制作包括书写、打印、印制、影印等的非底纹资料包括文字、标记、图案、图像等被部分替换，方法简便，达到防止变造的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 防伪 技术 | ||
【主权项】：
1.一种错纹防伪技术，其特征在与在一种产品中，每个印刷在承印物上的底纹都是不同的，并且有两组或两组以上相互独立的底纹，其相互位置不固定、错开，当用一个承印物上的部分拼接到另一个承印物上时，两组或两组以上的底纹最多只有一组底纹能完全拼接成功，而另一组底纹不能拼接成功，在每个承印物上有两组或两组以上相对位置不固定的底纹。
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- 罗俊仪;虞力英;包勇强;邵咏秋;陈林森;周小红;浦东林;叶燕;邵洁;吴智华 - 苏州苏大维格数码光学有限公司;公安部交通管理科学研究所
- 2007-07-20 - 2008-01-09 - B44F1/12
- 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
- 动态隐形防伪图纹及其制作方法-200610020757.2
- 蒋治全;姚杰 - 中国印钞造币总公司
- 2006-04-21 - 2006-09-13 - B44F1/12
- 本发明公开了一种动态隐形防伪图纹及其制作方法，在图案基层(1)上制作隐形图纹，用均匀的平行线形成隐形图纹的最小形状(4)，再从隐形图纹的最小形状(4)向外用均匀的平行线形成隐形图纹的最大形状(3)，并且使得隐形图纹的最小形状(4)和最大形状(3)在布线方向上呈45－90度对比排列，且两者线数相同，每毫米内布置有2－6根线，采用雕刻凹版制作工艺制作凹版，版纹深度控制在0.02－0.08mm范围内，或者用晒版腐蚀硬质模具的方法将图纹制作在模具上，该动态隐形防伪图纹在逆光转动观察时出现形态变化，直观、方便并且不易仿造；该发明可以应用于凹印印刷、硬币、章和模具等隐形防伪技术领域。
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