[发明专利]阵列基板及其制造方法有效
申请号: | 03807017.0 | 申请日: | 2003-03-24 |
公开(公告)号: | CN1643443A | 公开(公告)日: | 2005-07-20 |
发明(设计)人: | 冢田一郎 | 申请(专利权)人: | 怗福丕帝股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/13 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 包于俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种平面显示装置用阵列基板及其制造方法,对于像素区域内的布线产生的断线,不论断线的种类,特别是不论成为断线的原因的异物的种类和尺寸、形状,都可确实地进行修复。因此,例如于信号线(31)产生有异物(8)造成的断线部(9)时,在除去异物(8)的后,藉激光CVD设置迂回绕过异物(8)的コ字形旁通布线(6)来进行修复。此时,预先藉照射激光,于相邻的一像素电极(51-1)设置矩形的缺口(51),并且设置使被断线部(9)分隔的信号线(31)的两布线部分(31a、31b)的上表面露出的接触孔(41、42)。沿像素电极(5)的缺口(51)的边缘(51a)设置コ字形旁通布线(6)的后,藉激光CVD设置用以遮蔽コ字形旁通布线(6)的后,藉激光CVD设置用以遮蔽コ字形旁通布线(6)的内侧区域的光的遮光膜。 | ||
搜索关键词: | 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包含:形成于基板上的第1布线;于该第1布线的延伸方向形成在与该第1布线同一平面层上、且在该平面层上形成与该第1布线不连续者的第2布线;及隔着绝缘膜而配置于该第1布线和该第2布线的上层、且将该第1布线和第2布线电气连接的导电部,其特征在于,而该绝缘膜具有形成于该绝缘膜、使该第1布线的一部份露出的第1开口;及形成于该绝缘膜、使该第2布线的一部份露出的第2开口,而该导电部由该第1开口和第2开口而与该第1布线和第2布线连接,且该导电部的用以连接该第1开口和该第2开口的布线的平面长度系设定成较用以于所述延伸方向连接该第1开口和第2开口的线段的长度还长。
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