[发明专利]用于制造涂覆片材的方法，光学功能层，光学元件和图像显示设备无效
| 申请号： | 03154930.6 | 申请日： | 2003-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1485146A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | 增田友昭;土本一喜;近藤诚司 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/28 | 分类号： | B05D1/28;B05D1/40;B05D3/02;B05D7/04;C08J5/18;G02F1/13;G02B5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王玮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种用于制造涂覆片材的方法，所述涂覆片材可通过涂布液体形成具有均匀膜厚度的涂层，即使是基材具有大的面积。一种通过一种工艺制造涂覆片材以形成涂覆层的方法，所述工艺包括将包括树脂材料和溶剂的涂布液体涂覆到基材上的工艺(1)，和干燥涂覆液体的干燥工艺(2)，其中干燥在具有10m/s或更低的平均风速的干燥风流下进行，直至涂覆液体在干燥工艺(2)中的粘度在干燥温度下达到至少50[mPa·s]。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 涂覆片材 方法 光学 功能 元件 图像 显示 设备 | ||
【主权项】：
1.一种通过一种工艺制造涂覆片材以形成涂覆层的方法，所述工艺包括将包括树脂材料和溶剂的涂布液体涂覆到基材上的工艺(1)，和干燥涂覆液体的干燥工艺(2)，其中干燥在具有10m/s或更低的平均风速的干燥风流下进行，直至涂覆液体在干燥工艺(2)中的粘度在干燥温度下达到至少50[mPa·s]。
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