[发明专利]化学增幅型光阻剂组成物的高分子单体无效
| 申请号： | 03109218.7 | 申请日： | 2003-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1462747A | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 陈启盛;李晏成;郑孟勋 | 申请（专利权）人： | 美国永光公司 |
| 主分类号： | C07D307/33 | 分类号： | C07D307/33;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种化学增幅型光阻剂组成物的高分子单体，其特征在于，是如式(I)所示的化合物，其中R1为H或C1－C4的烷基；R2为羟基、C1－C8烷氧基或C1－C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0～4的整数；Rc为一内酯基；m为1～3的整数。此化合物适合做为高分子单体，合成具良好亲水性、附着性及抗干性蚀刻的高分子聚合物。尤其可搭配其它高分子单体，共聚合成高分子聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型光阻剂 组成 高分子 单体 | ||
【主权项】：
1、一种化学增幅型光阻剂组成物的高分子单体，其特征在于，其是如下式(I)所示的化合物，化学增幅型光阻剂组成物的高分子单体其中：其中R1为H或C1-C4的烷基；R2为羟基、C1-C8烷氧基或C1-C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0～4的整数；Rc为一内酯基；m为1～3的整数。
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