[发明专利]双等离子体喷管装置有效
| 申请号： | 01807854.0 | 申请日： | 2001-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN1422510A | 公开（公告）日： | 2003-06-04 |
| 发明（设计）人： | 蒂莫西·保罗·约翰逊;大卫·爱德华·迪根;克里斯托弗·大卫·查普曼;约翰·肯尼思·威廉斯 | 申请（专利权）人： | 特乔尼科斯有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/44 | 分类号： | H05H1/44 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种双等离子体喷管装置，包括支承于壳体内的两个等离子体喷管组件(10、20)。各喷管有第一和第二间隔开的电极。等离子体气体引入在两个电极之间的处理区。屏蔽气体引入成围绕该等离子体。供给管(112)用于向处理器供给供料。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 喷管 装置 | ||
【主权项】：
1.一种双等离子体喷管组件，包括：(a)至少两个具有相反极性的双等离子体喷管组件，该组件支承于壳体内，所述组件彼此间隔开，并各包括：(i)第一电极，(ii)第二电极，该第二电极与第一电极间隔开足够距离或适于与第一电极间隔开足够距离，以便在处理区中获得在该第一和第二电极之间的等离子体电弧；(b)用于将等离子体气体引入在第一和第二电极之间的处理区中的装置；(c)用于引入屏蔽气体以围绕该等离子体气体的装置；(d)用于将供料供给到处理区中的装置；以及(e)用于在处理区中产生等离子体电弧的装置。
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