[发明专利]抛光组合物有效
申请号: | 01103203.0 | 申请日: | 2001-02-02 |
公开(公告)号: | CN1307079A | 公开(公告)日: | 2001-08-08 |
发明(设计)人: | 萩原敏也;内藤宏一;藤井滋夫 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种抛光组合物,它含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的铁盐和/或铝盐;本发明还涉及一种使用该抛光组合物的抛光方法;涉及一种制造磁盘基片的方法,它包括用该抛光组合物抛光基片的步骤;还涉及使用该抛光组合物制得的磁盘基片。 | ||
搜索关键词: | 抛光 组合 | ||
【主权项】:
1.一种抛光组合物,它含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的铁盐和/或铝盐。
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