“VNI斯陆深株式会社”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]原子层沉积装置及原子层沉积系统-CN201580010609.X有效
发明人：曹生贤 -专利权人： VNI斯陆深株式会社
申请日： 2015-02-27 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种原子层沉积装置及原子层沉积系统，在把多个矩形基板支撑于一个基板支撑部的状态下，借助相对于气体喷射部的相对旋转而在基板表面形成薄膜，从而能够减小装置的安装空间，显著提高生产速度；本发明提供一种原子层沉积装置，包括真空腔；气体喷射部，其安装于所述真空腔的上侧或下侧，向基板的表面供应气体以便沉积薄膜；基板支撑部，其相对于所述气体喷射部而相对水平旋转地安装于所述真空腔，支撑沿其旋转中心而在圆周方向上配置的2个以上的矩形基板。
原子沉积装置系统

[发明专利]对准器结构和对准方法-CN201680023001.5在审
发明人：曹生贤;安成一 -专利权人： VNI斯陆深株式会社
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种对准器结构，通过提供用于在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下使基板(S)和掩模(M)固定且对准的对准结构而能够在基板S和掩模M垂直的状态下良好处理基板；以及一种对准方法。本发明的对准器结构包括掩模夹紧单元(100)，被设置在工艺腔室(10)中以便夹紧掩模(M)；基板夹紧单元(200)，用于夹紧基板载体(320)，基板(S)通过静电卡盘吸住并固定到基板载体上；对准单元(400)，相对于掩模(M)而相对移动基板载体(320)，以便使由基板夹紧单元(200)夹紧的基板(S)和由掩模夹紧单元(110)夹紧的掩模M对准；以及紧密接触驱动单元，用于允许通过对准单元(400)对准的基板(S)和掩模(M)彼此紧密接触。基板可在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下良好处理。
对准结构方法

[发明专利]对准器结构及对准方法-CN201580010595.1有效
发明人：曹生贤 -专利权人： VNI斯陆深株式会社
申请日： 2015-02-27 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种对准器结构，以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后，以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第2次相对移动，从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐。本发明的对准器结构作为在基板(S)表面执行薄膜沉积工序之前对准掩模(M)及基板(S)的对准器结构，包括第1次对准部(100)，其借助于基板(S)及掩模(M)的第1相对移动，依次地第1次对准基板(S)及掩模(M)；第2次对准部(200)，其在借助于所述第1次对准部(100)的第1次对准后，借助于基板(S)及掩模(M)的第2相对移动，依次地第2次对准基板(S)及掩模(M)；所述第2相对移动的移动尺度小于所述第1相对移动的移动尺度，从而以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后，以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第2次相对移动，从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐。
对准结构方法