专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]通用高速缓存管理系统-CN201711081517.8有效
  • P·V·巴盖尔;R·龙 - 甲骨文国际公司
  • 2012-02-24 - 2021-09-07 - G06F12/0811
  • 本申请涉及通用高速缓存管理系统。在计算设备的易失性存储器中将高速缓存分配到数据处理实例,其中高速缓存的每一个被专有地分配给数据处理实例的单独的一个。公共高速缓存被分配在计算设备的易失性存储器中,其中公共高速缓存由数据处理实例共享。数据处理实例的每个实例被配置为:识别在分配给该实例的特定高速缓存中的数据块,其中自从数据块被最后持久地写到一个或多个存储设备以来数据块没有变化;使得数据块被存储在公共高速缓存中;以及从特定高速缓存中消除数据块。在公共高速缓存中的数据块被维护而不被持久地写到一个或多个存储设备。
  • 通用高速缓存管理系统
  • [发明专利]用于盘组的流体控制装置-CN201710629046.3有效
  • R·龙;W·G·德特里克 - 迪尔公司
  • 2017-07-28 - 2020-11-20 - F16D25/12
  • 本发明涉及用于盘组的流体控制装置。流体控制组件控制到达盘组的流体,该盘组包括多个交错的盘,所述盘组可移动到这些盘的分离状态、这些盘的滑移状态以及这些盘的接合状态。致动器组件被构造成使所述盘组在所述分离状态、滑移状态和接合状态之间移动。阻挡构件被构造成通过所述致动器组件而作用,从而使得所述致动器组件和所述阻挡构件:(i)在处于所述分离状态时,减少或截断到达所述盘组的流体流;(ii)在处于所述滑移状态时,增加或打开到达所述盘组的流体流;并且(iii)在处于所述接合状态时,减少或截断到达所述盘组的流体流。
  • 用于流体控制装置
  • [发明专利]通用高速缓存管理系统-CN201280020216.3有效
  • P·V·巴盖尔;R·龙 - 甲骨文国际公司
  • 2012-02-24 - 2017-12-05 - G06F12/08
  • 在计算设备的易失性存储器中将高速缓存分配到数据处理实例,其中高速缓存的每一个被专有地分配给数据处理实例的单独的一个。公共高速缓存被分配在计算设备的易失性存储器中,其中公共高速缓存由数据处理实例共享。数据处理实例的每个实例被配置为识别在分配给该实例的特定高速缓存中的数据块,其中自从数据块被最后持久地写到一个或多个存储设备以来数据块没有变化;使得数据块被存储在公共高速缓存中;以及从特定高速缓存中消除数据块。在公共高速缓存中的数据块被维护而不被持久地写到一个或多个存储设备。
  • 通用高速缓存管理系统
  • [发明专利]多孔化学镀沉积涂层-CN200880106712.4无效
  • R·龙;F·戴利;陈海标;T·马赞克 - 维罗西股份有限公司
  • 2008-09-15 - 2010-08-11 - C23C18/16
  • 记载了一种生产多孔金属涂层的新的化学镀方法,其中的金属通过化学镀沉积在表面上。金属中的微粒被去除,从而在金属涂层中留下小孔。记载了形成化学镀涂层的另一种方法,其中将阻挡配位体附至该表面,继之以第二涂覆步骤。本发明包括本发明的方法形成的涂层和被涂覆的装置。本发明还包括具有致密基体和粘附在该致密基体上的多孔金属的催化剂结构,其特征在于特定的特征。
  • 多孔化学沉积涂层

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