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[发明专利]使用分路开关对等离子腔电源进行无过压的电弧恢复-CN200880009384.6无效
发明人： M·伊利奇;V·V·希洛;R·赫夫 -专利权人：先进能源工业公司
申请日： 2008-02-15 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G01R31/00 文献下载
摘要：描述了用于过压保护的系统和方法。在本发明的一个实施例中，一种装置包括输出端口，配置为向等离子腔输送功率以激励等离子。该装置还包括：分路开关，其与所述输出端口并联；以及处理器，配置为接收所述等离子中的电弧的指示。所述处理器配置为将所述分路开关闭合一段时间以使得电流转向离开所述电弧。所述处理器还配置为触发所述分路开关的脉冲，以限制与所述电弧相关联的电压增加情况中的电压。
使用分路开关对等离子电源进行无过电弧恢复

[发明专利]调整气相沉积靶的方法和系统-CN200780019632.0无效
发明人： M·伊利克;R·赫夫;G·麦克多诺 -专利权人：先进能源工业公司
申请日： 2007-04-27 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明描述了用于调整气相沉积靶的方法和系统。在一个示例性实施方案中，运行其中使用气相沉积靶的气相沉积系统，探测气相沉积系统中发生的电弧，通过调节驱动气相沉积系统的电源的输出电流并调节将能量输送到各电弧所用的时间，而将基本相同的能量输送到各电弧，来调整气相沉积靶。在某些实施方案中，输送到各电弧的能量近似等于气相沉积靶在不被损坏条件下所能承受的最大能量。所述方法和系统显著缩短了从靶去除杂质所需的时间，并且不需要真空室的排气或从真空室移出靶。
调整沉积方法系统