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[发明专利]特别用于微光刻的反射镜-CN202180036748.5在审
发明人： J.霍恩;M.阿瓦德;K.希尔德 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻的反射镜，包括反射镜衬底(110)、用于反射入射到光学有效表面(101)上的电磁辐射的反射层系统(120)和至少一个连续的压电层(130、230、330)，该压电层布置在反射镜衬底和反射层系统之间，并且能够通过位于压电层的面向反射层系统的一侧上的第一电极布置和位于压电层的面向反射镜衬底的一侧上的第二电极布置向其施加用于产生局部可变变形的电场，其中，所述电极布置中的至少一个被分配有介体层(170)，用于设置沿着相应电极布置的至少局部连续的电势分布，其中分配有介体层的所述电极布置具有多个电极(160、260、460、560、660)，相对于相应的另一电极布置可以向每个电极施加电压，并且其中介体层构造成使得，在分别耦合两个彼此相邻的电极的区域中，所述介体层被细分成彼此电绝缘的多个区域(171、271、471、571、671)。
特别用于微光反射

[发明专利]驱动装置、光学系统和光刻设备-CN202180031191.6在审
发明人： M.阿利曼;M.曼格;L.伯格;M.阿瓦德 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2021-04-23 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H02N2/06 文献下载
摘要：一种用于驱动电容致动器(200)的驱动装置(100)，电容致动器(200)用于致动光学系统(300)的光学元件(310)，该驱动装置(100)包括：用于施加驱动电压(U DC)到致动器(200)的驱动单元(110)，用于设定从动的致动器(200)的特定位置，其中驱动单元(110)和致动器(200)经由第一节点(K1)耦联；由激励信号(s(t))控制并耦联到第一节点(K1)的源(120)，用于将时间相关的AC电流信号(I(t))馈送到第一节点(K1)中，使得由于驱动电压(UDC)和与AC电流信号(I(t))和致动器(200)的阻抗(Z)的乘积对应的AC电压的叠加而在致动器(200)处产生特定AC电压；滤波器单元(130)，连接到致动器(200)的输出且用于对致动器(200)的输出信号(A)进行滤波；以及确定单元(140)，耦联到滤波器单元(130)的输出端并配置为取决于经滤波的输出信号(r(t))确定致动器(200)的阻抗行为(IV)，并在其输出端输出用于驱动源(120)的激励信号(s(t))。
驱动装置光学系统光刻设备

[发明专利]调制装置、控制装置、光学系统、光刻系统和方法-CN202080055084.2在审
发明人： C.里赫特;M.阿瓦德 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： H03K11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种根据N位宽输入信号(I)生成1位宽调制信号(PWM)的调制装置(100)，包括：信号分离器(110)，用于生成具有输入信号(I)的M个较高值位的M位宽第一子信号(Xh)，以及用于生成具有输入信号的L个较低值位的L位宽第二子信号(X1)，其中L＝N–M；第一调制单元(120)，用于根据第二子信号(X1)生成1位宽脉冲密度调制信号(PDM)；加和单元(130)，用于根据第一子信号(Xh)和脉冲密度调制信号(PDM)生成M位宽加和信号(Xs)，并且包括第二调制单元(140)，用于根据加和信号(Xs)生成1位宽调制信号(PWM)。
调制装置控制光学系统光刻系统方法

[发明专利]修改微光刻光学系统的成像性质的方法和装置-CN201780084098.5有效
发明人： J.克诺夫;M.阿瓦德 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及修改微光刻的光学系统的成像性质的方法和装置。根据本发明的方法包含通过由至少一个接口耦合到光学系统中的控制信号(A，B，C)修改成像性质，其中在控制成像性质的期望的修改中被耦入的这些控制信号的相应值基于模型来确定，其中生成该模型在于：在学习阶段中发生将模型连续单独适配到光学系统，在该学习阶段中确定了对于控制信号的不同值所获得的成像性质的相应修改；并且其中在没有规定光学系统内关于内部动作机制的显性信息的情况下，实行学习阶段。
修改微光光学系统成像性质方法装置