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[发明专利]包括用于将辐射施加到靶的辐射发射器的装置和相关方法-CN201880017282.2在审
发明人： J·赫克;D·莱昂哈特;D·斯普拉克;M·派尔;J·迪特里希 -专利权人：贺利氏特种光源美国有限责任公司;贺利氏特种光源有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： G02B19/00 文献下载
摘要：提供了一种用于将辐射施加到靶的装置。所述装置包括：辐射发射器，所述辐射发射器发射峰值发射波长在10nm至1mm的范围内的电磁辐射；以及第一反射器，所述第一反射器在长度方向上延伸并且具有凹横截面。所述第一反射器界定具有周界的空腔区域，并且包括用于所述空腔区域的所述周界的至少50％的内向反射边界。向所述空腔区域提供具有强度分布I和最大强度I_max的辐射。所述空腔区域包括由归一化强度I/I_max大于0.2的所有点界定的聚焦区域。所述聚焦区域的宽度是所述空腔区域的宽度的0.0001倍至0.5倍。
空腔区域辐射发射器反射器聚焦区域界定周界辐射施加峰值发射波长电磁辐射凹横截面强度分布归一化反射发射延伸

[发明专利]辐射源的射束分布的优化-CN201680039909.5在审
发明人： P·戈尔德;J·迪特里希;C·吕特;M·派尔;S·迈尔;E·布雷加;M·霍夫曼;J·施特劳斯 -专利权人：贺利氏特种光源有限公司
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种辐射源(10)，其包括a.发光器件(12)；b.第一光学元件(14)；c.传感器(15，16，17)，其中，传感器(15，16，17)被如此地设计并且这样地与第一光学元件(14)连接，使得借助于传感器(15，16，17)可以确定第一光学元件(14)的参数在时间上的变化，其中，该参数影响辐射源(10)的光学特性。此外，描述了一种用于在提供根据本发明的辐射源(10)的条件下制造产品的方法以及辐射源(10)的用于提高由反应物向产品的转化或状态改变的效率的应用。
辐射源分布优化

[发明专利]具有反射体的灯-CN201380023207.4在审
发明人： S·沙特;M·派尔;H·迈维格 -专利权人：贺利氏特种光源有限责任公司
申请日： 2013-03-14 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： B41F23/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种灯，包括分别具有多个分布在模块面上的LED(3)的第一模块(1)和至少一个第二模块(1)，其中，这些模块(1)为排出损耗热而设置在至少一个冷却体(2)上，还包括反射体(5)，其中，由这些模块(1)之一发射的光通过反射体(5、5a、5b)偏转到灯的出射口内(6)，其中，在至少几个LED(3)与出射口(6)之间具有光学组件(8、9、11、12)，LED(3)的光通过该光学组件聚焦在目标面(10)中的定义结构内。
具有反射