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[发明专利]掩模元件原版和浮雕图像形成系统-CN201980013466.6在审
发明人： K.M.基尼;E·A·富伦卡姆;M·Z·阿里 -专利权人：米瑞控公司
申请日： 2019-02-04 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：一种可用于形成掩模元件的可成像材料，该掩模元件又可用于例如在柔性版印刷版中提供浮雕图像。可成像材料依次具有：(a)透明聚合物载体片材；(b)不可消融的光热转换层，其平均干厚度为1‑5μm并且包含：(i)0.1‑5重量％的红外辐射吸收材料；(ii)热交联的有机聚合物粘合剂材料；和(iii)不可热消融颗粒，其平均粒径为0.1‑20μm，含量为0.2‑10重量％；和(c)设置在LTHC层上的非卤化银的可热消融成像层(IL)，该IL包含分散在一种或多种可热消融的聚合物粘合剂材料中的第二红外辐射吸收材料和UV光吸收材料。
元件原版浮雕图像形成系统

[发明专利]形成掩模的可成像材料和使用它制备浮凸图像的方法-CN201480021597.6有效
发明人： K.M.基尼 -专利权人：米瑞控公司
申请日： 2014-04-08 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：可成像材料可用于形成提供浮凸图像的掩模图像。该可成像材料具有简化的结构并且基本上由以下按序构成：透明聚合物载体片和包含第一红外辐射吸收化合物的阻隔层。在所述透明聚合物载体片或所述阻隔层内提供第一紫外辐射吸收化合物。将非卤化银热敏可成像层置于所述阻隔层上并且所述可成像层包含第二红外辐射吸收化合物和第二紫外辐射吸收化合物。通过以下步骤来形成浮凸图像,使所述可成像材料成像以形成成像的掩模材料，通过成像的掩模材料用固化辐射曝光凸版形成材料以形成曝光区域和非曝光区域，并且通过去除它的非曝光区域使成像的凸版形成材料显影以形成浮凸图像。
形成成像材料使用制备图像方法