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[发明专利]等离子体成膜装置以及等离子体成膜方法-CN201980066804.2有效
发明人：岛田胜;鸟居博典;田中梢 -专利权人： JSWAFTY公司
申请日： 2019-09-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：等离子体成膜装置1具有：真空腔2，在基板4上进行成膜处理；基板支座3，设置为能够沿基板4的膜形成面4a旋转；旋转轴5，与基板支座3连接；等离子体产生部10，产生等离子体6且设置为使得等离子体6相对于旋转轴5的照射角度成锐角。而且，具有：第一驱动部7，使基板支座3在与旋转轴5平行的上下方向11上移动；第二驱动部8，使基板支座3在与旋转轴5正交的水平方向12上移动；以及使旋转轴5旋转的第三驱动部9，基板支座3在上下方向11和水平方向12上分别独立地移动。
等离子体装置以及方法

[发明专利]靶、成膜装置和成膜对象物的制造方法-CN201980089825.6在审
发明人：鸟居博典;影山浩二 -专利权人： JSWAFTY公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的目的是谋求靶构件的长寿命化。通过将靶(TA2)的构造形成为对称构造，实现能够翻转的结构。由此，即使在等离子体密度较高的等离子体生成部侧的靶构件(71)的消耗增大，也能够通过使靶(TA2)翻转而将位于等离子体密度较低的成膜对象物侧的消耗较少的靶构件(71)的部位再配置于等离子体密度较高的等离子体生成部侧。
装置对象制造方法