专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果11个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]具有高存储密度的光记录材料-CN200480005575.7无效
  • U·莱曼;P·萨特;B·施密德哈尔特;J·-L·布德里 - 西巴特殊化学品控股有限公司
  • 2004-02-23 - 2006-04-05 - G11B7/24
  • 本发明涉及一种光记录介质,它包含基材、反射层和基于通式(I)化合物的记录层,其中G1和G2彼此独立,A1和A2彼此独立地是N(R12)、O、S或Se,而A3是C(C1~C5烷基)2、C(C4~C5亚烷基)、N(R12)、O、S、Se、N=C(R13)或未取代的或者R14-取代的CH=CH;M1是族IX~XII的过渡金属,优选Co、Cu、Ni、Pd或Zn,尤其是Co、Cu或Ni;Q1和Q2彼此独立地是C(R15)、N或P……有关其它取代基的细节,参见正文。记录和回放尤其以350~500nm的波长,例如,采用蓝色激光实施的。记录和回放品质卓越并允许高存储密度。还公开通式(I)的新化合物,但J.Org.Chem.67/16,5753-5772中公开的化合物除外。
  • 具有存储密度记录材料
  • [发明专利]高性能光学存储介质-CN03811036.9无效
  • U·勒曼;P·埃施利曼;J·-L·布德里;B·施密哈特;C·莫顿 - 西巴特殊化学品控股有限公司
  • 2003-04-15 - 2005-08-10 - G11B7/24
  • 本发明涉及一种包括基层、反射层和记录层的光学记录介质,其中所述记录层包括下式的化合物:其中R1到R11可为氢或各种取代基,但是R1和R9并不同时为氢;Ym-为无机、有机或有机金属阴离子,或它们的混合物;Zn+为质子或金属、铵或鏻阳离子,或它们的混合物;m、n和o各自独立为1到3的整数;和p和q各为0到4的一个数,o、p和q的相互比率取决于相关的亚结构的电荷,以使式(I)、(II)或(III)中没有过量的正电荷或负电荷。本发明还公开了呫吨高氯酸盐在制备具有有机金属阴离子的式(I)、(II)或(III)的化合物中的用途,和乳酸盐在具式(I)、(II)或(III)的化合物的染料层通过旋涂施加到具槽基层上的用途。
  • 性能光学存储介质

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top