专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]可写可擦的高密度光学存储介质-CN98804413.7无效
  • H·斯帕尼;J·米祖古赤;B·施米德哈特;A·沃勒布;J·-L·杜德赖;G·吉勒 - 西巴特殊化学品控股有限公司
  • 1998-04-17 - 2000-05-10 - C07D471/06
  • 本发明涉及包括基质和存储层的光学存储介质,其中存储层含有式(Ⅰ)或(Ⅱ)的化合物式中A和A’分别是未取代的或被一或二卤、羟基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、氰基或硝基取代的苯基、吡啶基、吡咯基、咪唑基、呋喃基或噻吩基,需要时,这些基团可与苯环稠合,或是N-C1-C6烷基吡啶鎓基的卤化物、四氟硼酸盐或未取代的或被一或多卤取代的C1-C6烷基磺酸盐、苯磺酸盐、C1-C6烷基苯磺酸盐、C1-C6烷基硫酸盐或二C1-C6烷基膦酸盐,或未取代的或被一或二羟基取代的C2-C6烷基或C2-C6烯基,这些基的链可以是连续的或被一个或二个氧原子断开的,B和B’分别是2H、S、S2或SO2,和n和n’分别是1-4的数。本发明还涉及在波长400-700nm处用新的记录介质光学写入、存储、读出、修改或消除数据的方法,仅用连续激光辐射或仅用调制激光辐射光学写入、修改或消除数据的光学记录器,用机械力将式(Ⅰ)或(Ⅱ)的化合物从黑色形式转变为红色形式的方法,以及新的式(Ⅰ)或(Ⅱ)的化合物。
  • 可写可擦高密度光学存储介质

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