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[发明专利]用于制造纤维料幅成品卷的方法-CN202080071903.2有效
发明人： E.韦申巴赫尔;C.沃费尔;D.于尔根斯 -专利权人：福伊特专利有限公司
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： D21F11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造由纤维悬浮液制造的纤维料幅(1)的母卷(2)和成品卷(3)的方法，所述成品卷(3)由通过纵向切割从该母卷(2)伸出的纤维料幅(1)产生的子料幅构成。在此通过改变纤维悬浮液的组成和/或基于纤维料幅参数，优化成品卷(3)的卷绕和/或改善成品卷(3)的质量参数。
用于制造纤维成品方法

[发明专利]光学系统及方法-CN201880023059.9有效
发明人： D.于尔根斯;K.希尔德;B.盖 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻机(100A、100B)的光学系统(200)，该光学系统(200)包括主反射镜元件(206)、操纵器装置(400)、光学有效表面(306、306′)和致动器矩阵(308)，该操纵器装置(400)用于定位和/或取向主反射镜元件(206)，该光学有效表面(306、306′)用于反射辐射(108A、108B)，以及该致动器矩阵(308)定位在主反射镜元件(206)和光学有效表面(306、306′)之间并配置为使光学有效表面(306、306′)变形以便影响其反射性质，间隙(316)配备在致动器矩阵(308)与主反射镜元件(206)的前侧(214)之间，以便使致动器矩阵(308)与所述主反射镜元件(206)间隔开。
光学系统方法

[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统以及降低图像位置误差的方法-CN201080069309.6有效
发明人： J.罗弗;J.T.纽曼;J.齐默尔曼;D.赫尔维格;D.于尔根斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-09-28 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，利用仿真或度量确定与光敏表面(22)上所形成的特征的像关联的图像位置误差。然后，将投射光的输入偏振状态变更为椭圆输出偏振状态，其被选择为致使图像位置误差降低。
微光投射曝光设备光学系统以及降低图像位置误差方法