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[发明专利]隔膜清洁设备-CN202080072790.8在审
发明人： A·尼基帕罗夫;D·库日洛维奇 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-08-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于从隔膜移除颗粒的隔膜清洁设备，所述隔膜清洁设备包括：隔膜支撑件，所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜；和压力脉冲产生机构，所述压力脉冲产生机构包括被配置成在气体中产生压力脉冲的一个或更多个激光能量源。所述一个或更多个能量激光源可以被聚焦以在气态气氛中产生压力脉冲。所述压力脉冲用以移走所述隔膜上的颗粒。
隔膜清洁设备

[发明专利]隔膜清洁设备-CN201980079386.0在审
发明人： A·尼基帕罗夫;D·库日洛维奇;F·斯布莱萨伊;M·A·范德柯克霍夫;T·W·范德伍德;威廉·琼·范德赞德;J·范杜凡波第;D·F·弗莱斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。
隔膜清洁设备

[发明专利]辐射源-CN201980016172.9在审
发明人： D·库日洛维奇;O·O·维尔索拉托;T·皮涅罗德法利亚斯平托;S·M·维特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：描述了一种激光产生等离子体类型的辐射源(SO)。所述辐射源(SO)包括液滴发生器(3a)，所述液滴发生器(3a)被配置成提供燃料液滴(60)。所述辐射源(SO)包括激光系统(1)，所述激光系统(1)被配置成提供前置脉冲和主脉冲。所述前置脉冲能够被操作以调节所述燃料液滴(60)以供接收主脉冲。所述主脉冲能够被操作以将调节后的燃料液滴(60)转换成等离子体。所述辐射源(SO)包括感测系统(16)，所述感测系统(16)被配置用于感测所述燃料液滴(60)的空间质量分布的振荡的特性。所述辐射源(SO)包括控制系统(44)，所述控制系统(44)能够被操作以在所感测的特性的控制下调整所述前置脉冲的偏振。所述前置脉冲的偏振可以影响调节后的燃料液滴(60)的空间质量分布。
辐射源