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[发明专利]增强重叠计量的性能-CN202180095179.1在审
发明人： A·玛纳森;A·V·希尔;Y·瓦克宁;Y·西蒙;D·内格里;V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔;A·戈洛塔斯万;N·罗斯曼;N·K·雷迪;N·本大卫;A·阿布拉莫夫;D·雅科夫;Y·于齐耶尔;N·古特曼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
增强重叠计量性能

[发明专利]多场扫描覆盖计量-CN202280018259.1在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种计量工具可包含照明子系统以用两个或更多个照明光束照射两个或更多个获取场内的样本，其中所述两个或更多个获取场以非重叠配置沿扫描方向分布，且其中平移台沿所述扫描方向平移所述样本上的计量目标循序通过所述两个或更多个获取场。所述计量工具可进一步包含成像子系统以在沿所述扫描方向扫描所述样本时使所述两个或更多个获取场成像。所述成像子系统可包含场重定位光学中继器以将所述两个或更多个获取场的图像中继到扫描检测器，所述扫描检测器包含沿列方向分布的一或多个像素列，其中所述场重定位光学中继器沿所述列方向将所述两个或更多个获取场的所述图像定位于所述扫描检测器上。
扫描覆盖计量

[发明专利]利用短波红外线波长的光学计量-CN202280018258.7在审
发明人： A·玛纳森;I·萨利布;R·约哈南;D·沙皮罗乌;E·哈贾;V·莱温斯基;A·阿布拉莫夫;M·申迪思;A·希尔德斯海姆;Y·格劳尔;S·艾森巴赫;E·拉维特;I·尼尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01N21/35 文献下载
摘要：一种光学计量工具可包含：一或多个照射源，其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射；照射光学器件，其经配置以将所述照射引导到样本；第一成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器；第二成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器；及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像，从所述第二检测器接收所述样本的第二图像，并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
利用短波红外线波长光学计量

[发明专利]用于叠加计量的倾斜照明-CN202280017626.6在审
发明人： A·V·希尔;Y·弗莱;A·玛纳森;M·吉诺乌克;Y·瓦克宁 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具，所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照明所述叠加目标，使得对于所述测量方向中的每一者，所述叠加目标对由所述物镜收集的所述一或多个照明分布的衍射级排他地包含来自所述两个或更多个照明波瓣中的至少一者的0级衍射波瓣及单个一级衍射波瓣。所述叠加计量工具可进一步包含用以将所述样本成像的至少一个检测器以及用以基于所述图像来产生叠加测量的控制器。
用于叠加计量倾斜照明

[发明专利]产品上的叠加目标-CN202280016524.2在审
发明人： A·玛纳森;V·莱温斯基;I·多列夫;Y·于齐耶尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-01-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种产品，其包含半导体衬底，具有至少第一及第二薄膜层，所述薄膜层安置于所述衬底上，且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中，每一叠加目标在平行于所述衬底的平面中具有不大于10μm×10μm的尺寸。所述多个叠加目标包含形成于所述第一薄膜层中且具有第一光栅向量的第一线性光栅，及形成于所述第二薄膜层中、靠近所述第一线性光栅且具有平行于所述第一光栅向量的第二光栅向量的第二线性光栅。
产品叠加目标

[发明专利]用于半导体装置晶片的改进计量的系统及方法-CN202180094001.5在审
发明人： L·叶鲁舍米;D·内格里;O·巴沙尔;Y·西蒙;A·玛纳森;N·本大卫;Y·于齐耶尔;E·拉维特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-10-01 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
用于半导体装置晶片改进计量系统方法

[发明专利]扫描散射测量叠盖测量-CN202180086549.5在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种叠盖度量系统可包含照明子系统，所述照明子系统用以利用第一照明瓣及与所述第一照明瓣对置的第二照明瓣依序对叠盖目标进行照明，其中所述叠盖目标包含从第一样本层及第二样本层上的周期性结构形成的光栅上覆光栅特征。所述系统可进一步包含用以产生所述叠盖目标的第一图像及第二图像的成像子系统。所述第一图像包含所述光栅上覆光栅结构的从所述第一照明瓣的单个非零衍射级形成的未解析图像。所述第二图像包含所述一或多个光栅上覆光栅结构的从所述第二照明瓣的单个非零衍射级形成的未解析图像。所述系统可进一步包含用以基于所述第一图像及所述第二图像而确定所述第一层与所述第二层之间的叠盖误差的控制器。
扫描散射测量

[发明专利]用于计量的光瞳平面光束扫描-CN202180086043.4在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;A·阿布拉莫夫;A·格拉诺特;A·V·舒杰葛洛夫 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种计量测量设备可包含：一或多个照明源；光束分离器，其经配置以从照明路径接收来自所述一或多个照明源的照明且沿着测量路径引导所述照明；及物镜。所述物镜可将来自所述测量路径的所述照明引导到样本，从所述样本收集光，且沿着所述测量路径将所述经收集光引导到所述光束分离器，使得所述光束分离器可沿着集光路径将所述经收集光引导到检测器。所述设备可进一步包含沿着所述测量路径的具有光瞳中继器及偏转器的光瞳平面扫描仪，所述偏转器在经中继光瞳平面中，使得调整所述偏转器会调整照明光点在所述样本上的位置，而未修改照明光瞳分布的位置或所述经收集光沿着所述集光路径的分布的位置。
用于计量平面光束扫描

[发明专利]用于叠对测量的光栅目标结构的暗场成像-CN202080061806.5有效
发明人： A·希尔;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-08-31 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01B11/27 文献下载
摘要：一种计量系统可包含照射子系统以用具有对称离轴照射轮廓的照射来照射样本上的计量目标，其中所述对称离轴照射轮廓沿着一或多个测量方向而对称，且其中所述照射子系统以同时方式或顺序方式中的至少一者提供所述对称离轴照射轮廓中来自相对角的照射。所述计量目标可包含所述样本的第一层上的第一周期性结构及所述样本的第二层上的第二周期性结构。所述计量系统可进一步包含成像子系统以产生使用来自所述对称离轴照射轮廓的每一点的两个非零衍射级形成的所述计量目标的图像。所述计量子系统可基于所述一或多个图像而进一步确定指示所述第一层与所述第二层之间的对准的叠对误差。
用于测量光栅目标结构暗场成像

[发明专利]具有多个测量柱的大规模叠加计量采样-CN202180065154.7在审
发明人： J·马德森;A·V·舒杰葛洛夫;A·玛纳森;A·V·希尔;Y·西蒙;G·拉雷多;Y·于齐耶尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种多柱计量工具，其可包含沿着柱方向分布的两个或更多个测量柱，其中所述两个或更多个测量柱同时探测包含计量目标的样本上的两个或更多个测量区域。测量柱可包含用于将照明引导到所述样本的照明子系统、包含用于收集来自所述样本的测量信号且将其引导到一或多个检测器的集光透镜的集光子系统及用于调整所述集光透镜的位置的柱定位子系统。测量柱的测量区域可由所述集光透镜的视场及所述定位系统在横向平面中的范围界定。所述工具可进一步包含用于沿着不同于所述柱方向的扫描路径扫描所述样本以将计量目标定位于所述测量柱的所述测量区域内以进行测量的样本定位子系统。
具有测量大规模叠加计量采样

[发明专利]用于在基于图像的叠加计量中确定目标特征焦点的系统及方法-CN202180064419.1在审
发明人： E·拉维特;A·玛纳森;Y·西蒙;D·桑科;A·萨夫兰尼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-09-21 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统，所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。所述一或多个处理器可：接收在所述一或多个目标焦点位置处捕获的一或多个目标图像，所述目标图像包含目标样品的所述一或多个目标特征；及基于所述一或多个目标图像确定叠加。
用于基于图像叠加计量确定目标特征焦点系统方法

[发明专利]基于叠加计量测量的倾斜计算的系统及方法-CN202080078707.8有效
发明人： R·弗克维奇;P·麦克唐纳;A·莱维;裴金成;宋金岩;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-11-15 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明涉及一种计量系统，其包含通信耦合到一或多个计量工具的控制器。在另一实施例中，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器，所述程序指令引起所述一或多个处理器：从所述一或多个计量工具接收计量样本的一或多个计量目标的一或多个叠加计量测量；从所述一或多个测量叠加测量确定倾斜；及确定一或多个光刻工具或所述一或多个计量工具中的至少一者的一或多个校正数以调整所述倾斜，其中所述一或多个校正数经配置以减小所述样本的倾斜量或所述一或多个叠加计量测量的叠加不准确度。所述程序指令进一步引起所述一或多个处理器使用模拟器至少基于所述确定倾斜来预测倾斜。
基于叠加计量测量倾斜计算系统方法

[发明专利]灰色模式扫描散射测量叠对计量-CN202180045118.4在审
发明人： A·玛纳森;A·V·希尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种叠对计量系统，其可包含照明子系统、集光子系统及控制器。所述照明子系统可包含一或多个照明光学器件，其经配置以在通过平移载物台沿着载物台扫描方向扫描样本时将照明光束引导到所述样本上的叠对目标，其中所述叠对目标包含具有拥有沿着所述载物台扫描方向的周期性的光栅叠光栅结构的一或多个单元。所述集光子系统可包含：物镜；第一光电检测器，其定位于光瞳平面中0阶衍射与+1阶衍射之间的重叠位置处；及第二光电检测器，其定位于光瞳平面中0阶衍射与‑1阶衍射之间的重叠位置处。所述控制器可从所述第一及第二光电检测器接收时变干涉信号且确定沿着所述载物台扫描方向在所述样本的第一与第二层之间的叠对误差。
灰色模式扫描散射测量计量

[发明专利]用于扫描计量的计量目标-CN202211367512.2在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;G·拉雷多;Y·弗莱;M·吉诺乌克;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例涉及用于扫描计量的计量目标。一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向方向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第二组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
用于扫描计量目标

[发明专利]用于重叠的测量模式-CN202180032424.4在审
发明人： A·玛纳森;A·V·希尔;G·拉雷多 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种重叠度量工具可包含：照射源；照射光学器件，其用以使一或多个照射束照射具有周期性特征的重叠目标；聚集光学器件，其用以将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器；可调整光瞳掩模，其位于光瞳面处；及控制器。所述可调整光瞳掩模可包含一或多个可个别寻址控制区带，所述一或多个可个别寻址控制区带跨越所述光瞳面的一或多个部分分布以提供可调整光瞳透射率分布。所述控制器可引导所述可调整光瞳掩模以提供与选定重叠度量方案对应的选定光瞳透射率分布，其中所述选定光瞳透射率分布对应于提供一组选定衍射级从所述目标到所述检测器的透射的所述一或多个控制区带的选定配置。
用于重叠测量模式

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